钼基片台

1. 产品概述

MPCVD（微波等离子体化学气相沉积）钼基片台是一种专为高温、高压环境设计的关键部件，广泛应用于半导体制造、光学涂层、金刚石薄膜沉积等领域。钼基片台以其优异的热稳定性、高熔点和良好的机械性能，成为MPCVD设备中不可或缺的核心组件。

2. 产品特点

• 高熔点：钼的熔点高达2620°C，适合极端高温环境。

• 优异的热导率：确保基片台表面温度均匀分布，避免局部过热。

• 高机械强度：在高应力条件下保持稳定，延长使用寿命。

• 耐腐蚀性：在化学活性气体中表现出色，适合复杂工艺环境。

• 高纯度：采用高纯度钼材料，减少杂质污染，提升沉积薄膜质量。

• 定制化设计：可根据客户需求提供不同尺寸、形状和表面处理的基片台。

3. 应用领域

• 半导体制造：用于硅片、GaN、SiC等材料的沉积。

• 光学涂层：用于增透膜、反射膜等光学薄膜的制备。

• 金刚石薄膜沉积：用于工具、模具等表面的金刚石涂层。

• 科研实验：适用于高温高压条件下的材料研究和新工艺开发。

4. 技术参数

• 材质：高纯度钼（Mo）

• 熔点：2620°C

• 热导率：138 W/m·K

• 密度：10.2 g/cm³

• 纯度：≥99.95%

• 尺寸：支持定制（直径、厚度等）

• 表面处理：可提供抛光、涂层等定制化处理

5. 产品优势

• 高性能：在极端条件下保持稳定，确保工艺一致性。

• 长寿命：耐高温、耐腐蚀，减少设备停机时间和维护成本。

• 高精度：表面平整度高，确保薄膜沉积均匀性。

• 定制化服务：根据客户需求提供个性化设计和制造服务。

• 优质售后服务：提供全面的技术支持和维护服务。

6. 使用与维护

• 安装：确保基片台与设备匹配，避免机械应力。

• 清洁：定期清理表面污染物，保持高纯度和性能。

• 检查：定期检查磨损和腐蚀情况，及时更换或维护。

7. 适用设备

• MPCVD设备

• 化学气相沉积（CVD）设备

• 等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备

• 其他高温薄膜沉积设备

MPCVD钼基片台凭借其优异的性能和可靠性，在半导体、光学涂层和金刚石薄膜沉积等领域发挥着重要作用。无论是大规模生产还是科研实验，钼基片台都能提供高效、稳定的支持，是MPCVD设备中的核心组件。

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